Излагается физика формирования электронных и ионных пучков малых и средних энергий, а также пучков ультрамягкого рентгеновского излучения. Рассматриваются физические явления, возникающие при взаимодействии пучков указанных типов с веществом. Детально исследуются механизмы экспонирования электронных, ионных и рентгеновских резистов. Описываются численные электронно- и ионно-литографические эксперименты по методы Монте-Карло. Обсуждается физика процесса ионно-лучевого распыления (травления) твердых тел. Излагаются физические основы методы определения субмикронных размеров элементов интегральных микросхем и приводятся примеры решения некоторых метрологических задач. Это и многое другое вы найдете в книге Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике ("Валиев Камиль Ахметович;Раков Александр Васильевич")