Предложены и разработаны способы отгонки основных компонентов путём хлорирования оксида висмута(III) газообразным хлористым водородом, оксида вольфрама(VI) газообразным четыреххлористым углеродом и оксида молибдена(VI) газообразным хлором впроточном реакторе, позволяющие удалять основу пробы на 99,9% и более. Экспериментально доказана полнота концентрирования 13 примесей: Ag, Al, Be, Ca, Co, Cr, Cu, Mg, Mn, Ni, Pb, Pt, Ti при отгонке Bi2O3 в виде BiCl3; 13 примесей при отгонке WO3 в виде WO2Cl2 и WOCl4: Ag, Al, Ba, Be, Ca, Co, Cr, Cu, Mg, Mn, Ni, P, Pt ; 16 примесей при отгонке MoO3 в виде MoO2Cl2: Ag,Al, Au, Ba, Be, Ca, Co, Cu, Fe, Mg, Mn, Ni, P, Pt, Ti, Zr. На основе предложенных способов отгонки основных компонентов и концентрирования примесей разработаны комбинированные атомно-эмиссионные с дуговым возбуждением излучения методики анализа высокочистых оксидов висмута(III), вольфрама(VI) и молибдена(VI). Это и многое другое вы найдете в книге ДПТ-АЭС АНАЛИЗ ВЫСОКОЧИСТЫХ ОКСИДОВ ВИСМУТА, ВОЛЬФРАМА И МОЛИБДЕНА (Альфия Цыганкова)